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    이재용 "철저히 준비해 벽 넘자"…'EUV 적용 D램' 등 미래기술 챙겨

    ... 분야에 필수적으로 들어가는 기술이기 때문이다. 이날 삼성전자는 세계 최초로 EUV 노광 장비로 D램을 양산하는 데 성공했다. EUV 노광 장비는 반도체 원판인 웨이퍼에 회로를 그릴 때 활용된다. 현재 널리 쓰이는 불화아르곤(ArF) 장비를 쓸 때보다 제품 불량률을 낮추고 성능을 향상시킬 수 있다. EUV 노광 장비는 빛으로 웨이퍼에 회로를 새길 때 쓰인다. 광원으로 극자외선을 쓰는 게 특징이다. 극자외선 파장은 13.5nm(나노미터, 1nm=10억분의 ...

    한국경제 | 2020.03.25 17:29 | 정인설/황정수

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    삼성전자, 세계 최초로 EUV 장비 활용해 D램 양산

    삼성전자가 세계 최초로 EUV(극자외선) 노광 장비를 활용한 D램 양산에 성공했다. EUV 노광 장비는 반도체 원판인 웨이퍼에 회로를 그릴 때 활용된다. 현재 널리 쓰이는 불화아르곤(ArF) 장비를 쓸 때보다 제품 불량률을 낮추고 성능을 향상시킬 수 있다. 삼성전자는 내년 출시 예정인 4세대 10nm(나노미터, 1nm=10억분의 1m)급 DDR5, LPDDR5 제품도 EUV 노광 기술을 적용해 경쟁업체와의 기술 격차를 확대할 계획이다. 삼성전자는 ...

    한국경제 | 2020.03.25 11:29 | 황정수

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    이재용, 삼성 '첫 EUV 파운드리' 현장경영…시스템반도체 '초격차' 의지

    ...ound) 구조를 적용한 3나노 이하 차세대 파운드리 제품을 주력으로 생산할 예정이다. 삼성전자가 새로 도입한 EUV 노광 기술이란 파장이 짧은 극자외선 광원을 이용해 웨이퍼에 반도체 회로를 새기는 기술을 가리킨다. 불화아르곤(ArF)을 이용한 기존 기술보다 세밀한 회로 구현이 가능한 게 특징. 삼성전자는 이 기술을 고성능 저전력 반도체 생산에 활용하고 있다. 삼성전자는 올해 시스템 반도체 부문에서 타 업체들과 '초격차'를 벌려나갈 계획이다. ...

    한국경제 | 2020.02.20 15:03 | 배성수

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    SK머티리얼즈, 금호석화 포토레지스트 사업 400억원에 인수(종합)

    ... 포토레지스트는 반도체 웨이퍼 위에 회로 패턴을 형성하는 노광 공정에 쓰이는 핵심 소재로 지난해 일본이 수출규제를 강화한 3가지 품목에 극자외선(EUV) 공정용 포토레지스트가 포함돼 주목받았다. 금호석유화학은 지난 2005년 불화아르곤(ArF) 포토레지스트를 국내 최초로 양산했으며, 3D 낸드용 불화크립톤(KrF) 포토레지스트, 반사방지막(BARC) 등 다양한 포토레지스트 소재와 부재료를 공급해왔다. 특히 EUV용 포토레지스트 관련 특허를 보유하고 있어 높은 시장 ...

    한국경제 | 2020.02.07 15:30 | YONHAP

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    SK머티리얼즈, 금호석화 포토레지스트 사업 400억원에 인수

    ... 포토레지스트는 반도체 웨이퍼 위에 회로 패턴을 형성하는 노광 공정에 쓰이는 핵심 소재로 지난해 일본이 수출규제를 강화한 3가지 품목에 극자외선(EUV) 공정용 포토레지스트가 포함돼 주목받았다. 금호석유화학은 지난 2005년 불화아르곤(ArF) 포토레지스트를 국내 최초로 양산했으며, 3D 낸드용 불화크립톤(KrF) 포토레지스트, 반사방지막(BARC) 등 다양한 포토레지스트 소재와 부재료를 공급해왔다. 특히 EUV용 포토레지스트 관련 특허를 보유하고 있어 높은 시장 ...

    한국경제 | 2020.02.07 15:11 | YONHAP

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    동진쎄미켐, '日규제 맞서 국산화' 포토레지스트 공장 증설

    ... 반도체·디스플레이 소재기업인 동진쎄미켐이 일본 수출규제 대상 품목 중 하나인 포토레지스트 증설공장을 짓는다. 15일 산업통상자원부에 따르면 동진쎄미켐은 극자외선(EUV)용 포토레지스트의 바로 전 단계인 반도체용 불화아르곤액침(ArF-immersion) 포토레지스트를 국내 최초로 개발해 생산하는 반도체·디스플레이용 소재 전문기업이다. 회사는 올해 1분기 중 불화크립톤(KrF), 불화아르곤(Arf) 등 포토레지스트를 생산하는 공장 증설에 들어갈 예정이다. 증설공장이 ...

    한국경제 | 2020.01.15 11:00 | YONHAP

사전

포토레지스트 [photoresist] 경제용어사전

... 특수 액체를 넣어 빛의 굴절률을 더 높인다. 빛을 더 많이 모을수록 회로 패턴이 더 잘 새겨지기 때문이다. 주로 45㎚ 반도체 공정에 사용됐다. 현재 범용 최신 제품인 10㎚대 반도체를 생산할 때 쓰는 기술이 '아르곤플로라이드(ArF) 이머전리소그래피'다. ArF 가스가 내뿜는 특수광선에 이머전리소그래피를 결합한 것이다. 이 리소그래피를 쓰면 14㎚ 반도체를 생산할 수 있다. 그러나 10㎚ 이하로 만들기는 불가능하다. '일본 업체 빼고는 아무도 모른다' 10㎚ 이하 ...

극자외선 노광장비 경제용어사전

극자외선을 이용하여 반도체를 생산하는 장비. 이 장비는 빛 파장이 13.5나노미터인현재 반도체 양산 라인에 주로 쓰이는 불화아르곤(ArF) 액침 장비(193나노미터)보다 짧다. 웨이퍼에 더 미세하게 패턴을 새길 수 있다. 삼성전자는 전세계 반도체 업체 중 최초로 EUV를 적용해 7나노미터 제품을 양산하고 있다. 또한 EUV를 활용해 파운드리(위탁생산) 분야에서 대만 TSMC를 따라잡는다는 계획을 세워놓은 상태다. 하지만 2019년 7월 4일부터 일본정부가 ...

극자외선 (EUV) 공정 [extreme ultraviolet photolithography technology] 경제용어사전

... 데 있어 중요한 과정인 포토공정에서 극자외선 파장의 광원을 사용하는 리소그래피(extreme ultraviolet lithography) 기술 또는 이를 활용한 제조공정을 말한다. 극자외선 파장은 기존 공정기술인 불화아르곤(ArF) 광원보다 파장의 길이가 10분의 1 미만이어서, 극자외선 파장을 가진 광원으로 노광작업(레이저 광원으로 웨이퍼에 패턴을 새기는 작업)을 하면 반도체 회로 패턴을 더욱 세밀하게 제작할 수 있을 뿐더러 공정 수를 줄여 생산성을 높이고 ...

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