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반도체 제조 과정에서 포토마스크를 보호하는 덮개 역할을 하는 소재다. 기존 금속 실리사이드(MeSi) 소재 펠리클과 달리, 탄소나노튜브로 만든 직물 형태의 구조를 가지고 있어 EUV 빛의 투과율을 크게 높일 수 있다. 이는 2나노미터(nm) 이하 공정의 수율과 가격 경쟁력을 높일 수 있는 핵심 기술로 주목받고 있다. CNT 펠리클의 또 다른 장점은 뛰어난 내구성이다. 차세대 하이-NA EUV 장비에서 요구되는 600W 이상의 고출력에도 견딜 수 있어, ...

... 따라서 화이트 리스트에서 제외 되었다는 것은 민감한 물품을 수출하기에 신뢰하지 않는다는 것을 의미한다. 2019년 7월 4일 일본은 한국 대법원의 강제 징용 피해자 배상 판결에 반발하여 불화수소(에칭가스), 플루오린 폴리이미드, 포토리지스트 등 3개품목에 대해 화이트리스트 목록에서 제외해 수출규제에 나섰다. 2019년 8월2일에는 한국을 '화이트 리스트'에서 제외했다. 양국은 정상화를 위해 협의를 이어왔고, 2023년 3월 일본은 반도체 품목 수출 규제를 철회했다. ...

반도체 EUV(극자외선) 공정에 쓰이는 핵심 원료. 반도체용 시너(thinner)로 제조돼 EUV 노광 공정에서 극자외선 감광 반응이 일어나지 않은 부분에 묻은 감광물질(포토레지스트)을 씻어내는 역할을 한다. 노광 공정에 들어가기 전 웨이퍼에 바르면 감광물질을 더 적게 사용하더라도 고르게 펴지도록 돕는다. EUV 공정으로 제조하는 반도체는 회로가 극도로 미세해 아주 작은 불순물이라도 묻어 있으면 수율이 떨어진다. 이 때문에 여기에 들어가는 PGMEA도 ...

반도체 원료인 웨이퍼 위에 뿌리는 '감광액'이다. 빛을 받아 반도체 회로를 새기는 특수 고분자물질이다. 400여 개 반도체 공정 가운데 30여 개에 포토레지스트를 사용한다. 반도체를 생산하려면 먼저 실리콘을 성장시켜 막대기 모양의 잉곳으로 만들고, 이를 가로로 썰어 원판 모양의 웨이퍼를 만든다. 리소그래피 공정에 앞서 웨이퍼엔 실리콘 산화막을 발라야 한다. 회로 간 전류 누설을 막는 절연막을 만드는 중요한 공정이다. 다음엔 웨이퍼 위에 포토레지스트를 ...

... 불화수소를 생산하고 있지만 저순도 불화수소만 만들거나 일본산 저순도 불화수소를 수입해 순도를 높여 판매하는 2차 공정을 맡아왔다. 일본 정부가 2019년 7월4일부터 반도체와 유기발광다이오드(OLED) 패널 제조 과정에 필요한 포토레지스트(PR)와 플루오린 폴리이미드(FPI) 등과 함께 고순도 불화수소(에칭가스)를 수출규제하면서 한국 기업들이 국산화를 서두르면서 국내 업체 솔브레인이 2019년 9월 국산화에 성공했다. 램테크놀러지도 국산화에 성공해 2019년 ...

반도체를 만드는 데 있어 중요한 과정인 포토 (노광) 공정에서 극자외선 파장의 광원을 사용하는 리소그래피(extreme ultraviolet lithography) 기술 또는 이를 활용한 제조공정을 말한다. 극자외선 파장은 기존 공정기술인 불화아르곤(ArF) 광원보다 파장의 길이가 10분의 1 미만이어서, 극자외선 파장을 가진 광원으로 노광작업(레이저 광원으로 웨이퍼에 패턴을 새기는 작업)을 하면 반도체 회로 패턴을 더욱 세밀하게 제작할 수 있을 ...

반도체 와 TFT-LCD의 리소그래피 공정에 쓰이는 포토마스크 의 원재료 로 석영 유리 기판에 크롬막과 감광액을 입힌 것. 반도체 회로설계에 사용되며 고순도의 석영 잉곳 제작 및 웨이퍼 가공에는 상당수준의 기술력이 필요하다.

에그리포토닉스는 농업과 광기술을 뜻하는 단어인 Agriculture 와 photonics의 합성어로 LED조명을 농식품 재배용 광원으로 이용하는것을 뜻한다.

반도체 나 TFT LCD 등 회로 공정이 필요한 제조라인에서 카메라와 같이 포토마스크 에 빛을 쪼여 반도체 웨이퍼 나 TFT LCD 유리기판에 회로를 그려주는 장비를 말한다.

유리기판 위에 반도체 의 미세회로를 형상화 한 것. 즉, 투명한 석영기판 상층에 도포된 크롬 박막을 이용해 반도체 집적회로와 LCD 패턴을 실제 크기의 1~5배로 식각해 놓은 것으로 반도체 생산공정에 반드시 필요하다.