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금성사, 새 IC제조기술 개발...국내처음
... 수직/수평면의 폭을 줄여 Cell의 크기를 종래에 비해 36-50% 정도 감소시킬수 있게 되었다. 또한 이 공정은 Cell의 크기가 작아짐에 따라 내전압 특성이 감소되는 단점 을 보완하여 내전압 특성을 종전과 같이 15V정도로 유지하고 동작 주파수는 2배이상 향상된 1.5GHz까지 확장해 고속의 신호처리는 물론 노이즈도 대폭 제 거했으며 고집적화를 통해 다양한 기능을 수행하는 1칩화가 실현되어 세트 제 품 신뢰도 향상에도 크게 기여하게 되었다.
한국경제 | 1989.02.09 00:00