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빛에 노출되면 화학적 성질이 변하는 액체. 설계된 반도체 회로를 웨이퍼 위에 전사시킬 때 빛의 조사여부에 따라 달리 감응함으로서 미세회로 패턴을 형성할 수 있도록 하는 노광공정용 감광재료로 반도체와 TFT-LCD 등에 사용된다. 일본 산케이신문에 따르면 전 세계 감광액 수요의 90%를 신에쓰화학, JSR, 스미토모 등 일본 업체들이 생산하고 있다.

불소처리를 통해 열 안정성과 강도 등의 특성을 강화한 폴리이미드(PI)필름으로 플렉서블 OLED용 패널 제조에 필요한 핵심소재다. 스마트폰과 TV용 LCD(액정표시장치), 휴대폰용 인쇄회로기판(PCB), 반도체 패키징, 3D프린팅 소재 등을 생산할 때 광범위하게 사용된다. 일본업체가 세계시장의 90%를 점유하고 있다. 일본 정부가 이 소재 수출을 규제하면 세계 TV용 OLED 패널 시장을 독점하고 있는 LG디스플레이와 스마트폰용 OLED 패널 1위 ...

... 형태다. 10나노, 7나노, 5나노 등 '크기를 줄이는' 그동안의 공정 미세화 작업에서 나아가 설계를 바꿈으로써 성능을 효율화하겠다는 전략이다. 인텔은 3D 형태의 SoC를 개발하기 위해 관련 기술을 연구해왔다. 2018년 발표한 반도체 3D 패키징 기술인 '포베로스'가 대표적이다. 레이크필드는 포베로스 기술을 활용해 서로 다른 칩을 세 겹으로 쌓는다. 평면에 서로 다른 칩을 이은 2차원 형태의 SoC는 새로운 게 아니다. 스마트폰에 들어가는 퀄컴의 SoC가 대표적이다. ...

반도체가 인간의 뇌 신경망과 비슷한 기능을 할 수 있게 하는 기술. 인공지능(AI)의 핵심인 딥러닝(스스로 학습하는 것) 알고리즘 실행에 최적화돼 있다. 이미지, 음성 등 비정형적인 데이터를 빠르게 처리한다. 스마트폰 AI 서비스, 차량용 전장, 사물인터넷(IoT), 데이터센터 등 적용 범위가 넓다.

LG전자가 개발한 인공지능(AI)반도체로 2019년 5월16일 발표됐다. 이 칩은 컴퓨터가 다양한 데이터를 분석해 스스로 인지·추론·판단하는 '딥러닝' 알고리즘을 지원한다. 회사측에 따르면 가전제품들이 가상의 데이터 저장공간인 클라우드에 연동돼 음성 서비스와 같은 AI 기능을 제품 내부에서 구현한 획기적인 기술이라고 한다. 세부적으로 △공간, 위치, 사물, 사용자 등을 인식하고 구분하는 영상지능 △사용자 목소리나 소음의 특징을 인식하는 음성지능 △물리·화학적 ...

물리화학적 현상을 전기신호로 바꿔주는 전자부품. 사람의 감각기관에 해당하며 시스템 반도체로 구성한다. 이미지 센서(눈), 터치 센서(피부), 힘 센서(힘을 측정해 전기신호로 전환), 가속도·자이로 센서(균형유지 및 동작제어), 라이다·레이더 센서(내비게이션 및 충돌방지), 광 센서, 가스 센서(유체 화학성분 변화 감지) 등 다양하다.

자동차의 파워트레인(엔진·변속기 등 동력전달체계)이나 계기판 등 자동차 전자장치나 인포테인먼트를 위해 탑재되는 비메모리 반도체의 일종. 유럽계 기업이 탄탄한 입지를 갖고 있다. 네덜란드 NXP(10.5%), 독일 인피니온(9.9%)이 세계 1, 2위다.

불산플루오르화수소. 독성이 강한 부식성 기체로서 반도체 제조 공정 중 회로의 패턴을 형성하는 웨이퍼의 식각(etching)과 세정(cleaning)공정에 사용되는 소재다. 일명 "에칭가스"로도 불리는 고순도 불화수소는 스텔라 모리타 등 일본 업체가 세계 수요의 70% 이상을 생산하고 있다. 불화수소를 생산하고 관리한 역사가 100년 이상이다. 삼성전자와 SK하이닉스도 필요량의 대부분을 일본에서 수입해왔다. 솔브레인 홀딩스 등 국내 업체도 불화수소를 ...

스마트폰, 태블릿, 크롬북, 차량용 엔터테인먼트 시스템이 등 모바일 기기에서 사용되는 최신 내장 메모리 규격. eMMC 플래시 스토리지 기술을 궁극적으로 대체하기 위해 반도체 분야 표준 기관인 JEDEC이 2011년에 그 기준을 설정했다. UFS 기술은 크게 내장형 스토리지(eUSF)와 마이크로SD와 유사한 착탈식 스토리지 형태로 나뉜다. 애플은 이 표준을 따르지 않고 아이폰과 아이패드에서 맞춤형 NVMe 기술을 사용하고 있다. UFS 2.1은 기존 ...

반도체를 만드는 데 있어 중요한 과정인 포토 (노광) 공정에서 극자외선 파장의 광원을 사용하는 리소그래피(extreme ultraviolet lithography) 기술 또는 이를 활용한 제조공정을 말한다. 극자외선 파장은 기존 공정기술인 불화아르곤(ArF) 광원보다 파장의 길이가 10분의 1 미만이어서, 극자외선 파장을 가진 광원으로 노광작업(레이저 광원으로 웨이퍼에 패턴을 새기는 작업)을 하면 반도체 회로 패턴을 더욱 세밀하게 제작할 수 있을 ...